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你對(duì)ES-CN色譜柱了解多少?知道這些嗎?

更新時(shí)間:2023-01-07      點(diǎn)擊次數(shù):523
  ES-CN色譜柱產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
 
  在進(jìn)行分析法開發(fā)及有效性檢查過程中,對(duì)于色譜柱制造均一性的要求已經(jīng)越來越高。而Shim-pack VP-ODS正是為了滿足這一需求而開發(fā)出來的產(chǎn)品。穩(wěn)定化二氧化硅基材的品質(zhì),而在十八(烷)基的導(dǎo)入及惰性化方面,確立了具備較高再現(xiàn)性的表面修飾技術(shù)??梢詽M足研究開發(fā)部門、品質(zhì)管理部門的嚴(yán)格要求,可作為標(biāo)準(zhǔn)ODS色譜柱來使用。
 
  ES-CN色譜柱通過最大效率地提高分辨率來改善分離和檢測(cè)。它們出色的重現(xiàn)性可保持分析和數(shù)據(jù)的完整性。它們還可以通過更快的分離時(shí)間,更高的樣品通量和出色的耐用性來降低分析成本并最大限度地提高實(shí)驗(yàn)室生產(chǎn)率。
 
  使用本產(chǎn)品選擇指南可確保最佳色譜柱配置,并改進(jìn)各種LC平臺(tái)的色譜分析。將高效的核殼顆粒技術(shù)與多種表面化學(xué)組分結(jié)合在一起,使用戶能夠在各種應(yīng)用和具有挑戰(zhàn)性的分離中實(shí)現(xiàn)最佳分離度。產(chǎn)品還可確保一致的批次性能。
 

 
  產(chǎn)品的特點(diǎn):
 
  憑借硅膠合成水平、*的化學(xué)鍵合和端基封尾技術(shù),高超的勻漿填裝工藝,保證了色譜柱中的硅膠顆粒(4.6μm)有著球形表面和幾乎一致的顆粒大小,色譜柱在低壓的同時(shí),柱效很高。
 
  ES-CN色譜柱出現(xiàn)偏差的原因大至可分為3大類。一是二氧化硅基材的偏差,二是表面修飾時(shí)的偏差,三則是色譜柱填充的偏差。
 
  ES-CN色譜柱可以針對(duì)這些偏差實(shí)施嚴(yán)格的管理,從而按規(guī)定的規(guī)格確保合格產(chǎn)品的產(chǎn)出。從方法開發(fā)到品質(zhì)管理為止都得到了保證,從而可以獲得較高的色譜柱制造均一性。
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